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Sensofar 白光干涉儀從納米尺度到工業(yè)尺度

產(chǎn)品簡介

Sensofar 白光干涉儀從納米尺度到工業(yè)尺度當(dāng)一塊半導(dǎo)體晶圓上的納米級缺陷可能導(dǎo)致整個(gè)芯片失效,當(dāng) PCB 板上 0.1 微米的通孔誤差會影響航天器通信系統(tǒng),當(dāng)心臟支架表面的粗糙度直接關(guān)系到患者生命安全 —— 精密制造領(lǐng)域的每一個(gè)維度都在呼喚更精準(zhǔn)、更高效的測量技術(shù)。來自西班牙的 Sensofar 集團(tuán),以其革命性的共聚焦白光干涉測量技術(shù),正在重新定義*計(jì)量工具的標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品型號:S neox
更新時(shí)間:2025-09-08
廠商性質(zhì):代理商
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Sensofar 白光干涉儀從納米尺度到工業(yè)尺度

精密制造時(shí)代的測量范式革命:Sensofar 共聚焦白光干涉儀的技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)價(jià)值

當(dāng)一塊半導(dǎo)體晶圓上的納米級缺陷可能導(dǎo)致整個(gè)芯片失效,當(dāng) PCB 板上 0.1 微米的通孔誤差會影響航天器通信系統(tǒng),當(dāng)心臟支架表面的粗糙度直接關(guān)系到患者生命安全 —— 精密制造領(lǐng)域的每一個(gè)維度都在呼喚更精準(zhǔn)、更高效的測量技術(shù)。來自西班牙的 Sensofar 集團(tuán),以其革命性的共聚焦白光干涉測量技術(shù),正在重新定義*計(jì)量工具的標(biāo)準(zhǔn)。作為總部位于巴塞羅那科技核心區(qū)的跨國企業(yè),Sensofar 憑借覆蓋 30 多個(gè)國家的服務(wù)網(wǎng)絡(luò)和亞洲、美洲、歐洲的本地化團(tuán)隊(duì),將光學(xué)計(jì)量的前沿成果轉(zhuǎn)化為半導(dǎo)體、醫(yī)療、電子等產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)力躍升引擎。

Sensofar 白光干涉儀從納米尺度到工業(yè)尺度


三元技術(shù)融合:重新定義精密測量的可能

Sensofar 的突破性創(chuàng)新在于將共聚焦、白光干涉與 Ai 多焦面疊加三項(xiàng)技術(shù)無縫集成于單一測量頭,創(chuàng)造出傳統(tǒng)設(shè)備的適應(yīng)性。這種 "三位一體" 的技術(shù)架構(gòu),源于公司對不同材料表面特性的深刻理解 —— 從拋光晶圓的納米級平整度到航空發(fā)動(dòng)機(jī)葉片的復(fù)雜曲面,從透明薄膜的層間結(jié)構(gòu)到生物材料的柔彈性表面,單一設(shè)備即可完成從前需要多臺儀器的測量任務(wù)。
以旗艦產(chǎn)品 S neox 為例,其橫向分辨率可達(dá) 0.14μm,縱向精度更是突破 0.1nm 極限,相當(dāng)于能識別一根頭發(fā)絲直徑的百萬分之一。這種精度并非實(shí)驗(yàn)室里的理論值:河北工業(yè)大學(xué)*材料測試中心使用 S neox 對金屬、復(fù)合材料及半導(dǎo)體器件進(jìn)行表征,其亞納米級粗糙度分析能力為材料研發(fā)提供了關(guān)鍵數(shù)據(jù)支撐。而針對工業(yè)在線檢測場景設(shè)計(jì)的 Sonix 系統(tǒng),通過高速攝像頭與優(yōu)化光學(xué)設(shè)計(jì),將測量速度提升至傳統(tǒng)干涉系統(tǒng)的 7 倍,在保持 0.1nm 垂直分辨率的同時(shí),實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)的實(shí)時(shí)質(zhì)量監(jiān)控。
Smart 2 則展現(xiàn)了緊湊設(shè)計(jì)與強(qiáng)大功能的平衡。這款僅 5.3kg 的測量頭內(nèi)置計(jì)算核心,支持 14 米遠(yuǎn)距離布線,可直接集成于自動(dòng)化生產(chǎn)線。其的自動(dòng)對焦與參數(shù)優(yōu)化功能,讓操作員無需專業(yè)培訓(xùn)即可完成高精度測量 —— 從汽車零部件的粗糙度檢測到消費(fèi)電子玻璃蓋板的劃痕分析,只需一鍵操作便能生成符合 ISO 25178 標(biāo)準(zhǔn)的定制化報(bào)告。


Sensofar 白光干涉儀從納米尺度到工業(yè)尺度

跨行業(yè)的測量解決方案:從納米尺度到工業(yè)尺度

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,Sensofar 的技術(shù)正解決著最棘手的質(zhì)量控制難題。當(dāng)晶圓切割進(jìn)入微米級精度要求時(shí),S neox 的 EPSI 技術(shù)結(jié)合 Cross Kerf 插件,能自動(dòng)分析切割深度、槽寬均勻性等關(guān)鍵參數(shù),確保每一片芯片的切割質(zhì)量達(dá)標(biāo)。其 50X 物鏡下 0.21μm 的光學(xué)分辨率,足以識別 7nm 工藝節(jié)點(diǎn)下的電路缺陷,而 34mm 的 Z 軸測量范圍又能滿足從晶圓到封裝的全流程檢測需求。
印刷電路板 (PCB) 行業(yè)則受益于 Sensofar 對復(fù)雜結(jié)構(gòu)的測量能力。針對高縱橫比通孔(1:20)的檢測挑戰(zhàn),SensoPRO 孔插件可自動(dòng)生成 19 項(xiàng)表征參數(shù),通過容差設(shè)置實(shí)現(xiàn)合格 / 不合格的快速判斷。對于填充孔凹陷這一行業(yè)痛點(diǎn),專用 Dimple 插件能精準(zhǔn)識別連接點(diǎn)區(qū)域的高度變化,為高密度電路板的可靠性提供數(shù)據(jù)保障。這種從測量到分析的閉環(huán)能力,將傳統(tǒng)需要數(shù)小時(shí)的檢測流程縮短至分鐘級。
醫(yī)療器件制造更能體現(xiàn) Sensofar 技術(shù)的人文價(jià)值。其 Q vix pivot 系統(tǒng)專為心臟支架和瓣膜框架設(shè)計(jì),非接觸式測量避免了對精密醫(yī)療器械的潛在損傷,而 0.1nm 的精度確保了支架表面紋理符合人體植入標(biāo)準(zhǔn)。在人工關(guān)節(jié)表面粗糙度檢測中,多焦面疊加技術(shù)能捕捉 86° 的陡峭斜率,完整還原復(fù)雜曲面的形貌特征,為患者舒適度提供科學(xué)依據(jù)。
效率與生態(tài):超越測量的價(jià)值創(chuàng)造
Sensofar 的創(chuàng)新不止于硬件性能,更在于構(gòu)建了從測量到?jīng)Q策的完整生態(tài)系統(tǒng)。Sonix 系統(tǒng)搭載的 5 倍速掃描技術(shù),將傳統(tǒng)干涉儀需要 30 分鐘的測量縮短至 6 分鐘,配合 180fps 的高速相機(jī),使生產(chǎn)線的 100% 全檢成為可能。這種效率提升在消費(fèi)電子行業(yè)尤為關(guān)鍵 —— 當(dāng)每秒鐘都有上百部智能手機(jī)下線時(shí),Sensofar 的在線檢測方案能實(shí)時(shí)攔截缺陷產(chǎn)品,將不良率降低至 ppm 級別。
軟件平臺是 Sensofar 生態(tài)的核心競爭力。SensoVIEW 提供直觀的 3D 可視化界面,即使是非專業(yè)人員也能快速掌握表面形貌特征;SensoPRO 則針對不同行業(yè)開發(fā)專用插件,從 PCB 的凹陷分析到半導(dǎo)體的鍵合線檢測,從薄膜厚度測量到劃痕識別,實(shí)現(xiàn) "測量即分析" 的自動(dòng)化流程。河北工業(yè)大學(xué)的用戶反饋顯示,這種模塊化軟件架構(gòu)使研究人員能將更多精力投入材料創(chuàng)新,而非數(shù)據(jù)處理。
作為精密制造的 "標(biāo)尺",Sensofar 的技術(shù)正在推動(dòng)整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的精度升級。在半導(dǎo)體領(lǐng)域,其納米級測量能力支持 7nm 以下制程的研發(fā);在新能源行業(yè),電池極片的粗糙度分析幫助提升能量密度;在航空航天領(lǐng)域,發(fā)動(dòng)機(jī)葉片的輪廓檢測直接關(guān)系到飛行安全。正如 Sensofar 集團(tuán)的使命所強(qiáng)調(diào)的,通過*計(jì)量技術(shù)的普及,讓每一個(gè)制造環(huán)節(jié)都能實(shí)現(xiàn)可量化、可追溯的質(zhì)量控制。
從巴塞羅那的研發(fā)中心到亞洲的生產(chǎn)基地,從大學(xué)實(shí)驗(yàn)室的基礎(chǔ)研究到工廠車間的在線檢測,Sensofar 共聚焦白光干涉儀正以 "微米級視野,納米級精度" 重塑制造業(yè)的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。當(dāng)精密成為競爭的核心要素,選擇 Sensofar 不僅是添置一臺測量設(shè)備,更是擁抱一種的制造精度哲學(xué) —— 在這里,每一個(gè)納米的差異都能被感知,每一次微小的改進(jìn)都能被量化,最終推動(dòng)人類制造能力向更微觀、更的領(lǐng)域不斷探索。


結(jié)語:干涉測量的技術(shù)代際跨越

S neox的干涉體系以光波為尺、算法為眼,在PSI的亞埃級精度與CSI的工業(yè)魯棒性間取得平衡。其八部位移法的相位解析精度、EPSI的跨尺度能力,以及REC環(huán)境補(bǔ)償,共同構(gòu)成納米計(jì)量界的“干涉三角定律"。未來隨著計(jì)算光學(xué)迭代,干涉技術(shù)將從“形貌復(fù)現(xiàn)"邁向“工藝預(yù)測",成為智能制造的微觀決策中樞

Sensofar白光干涉:不受反光材料的影響

Sensofar 白光干涉儀從納米尺度到工業(yè)尺度


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